随着经济始终保持稳定的高速增长，---持续注入，一批跨国集团在陆续兴建了众多的微电子工厂因此国内技术与研究人员有更多机会直接接触国外---级洁净室的设计理念，了解的---设备和装置、管理与维护等等。从这方面来看，的确从各个角度与国际日益接轨。非单向流洁净室广泛用于电子工业、生物工业和各种工业洁净室，这类洁净室的进化空调系统的送回风通常采用顶送侧回、顶送顶回等方式，在洁净生产区的技术夹层或技术夹道内布置送回风管、排风管和和各种公用动力管线等。
提高设备水平
设备的材质、加工精度、密闭程度以及管理制度都与交叉污染有关。所以洁净车间除了合理布局外，提高设备的自动化水平和组成联动的生产线，以减少操作人员，降低人员的活动频率，是防止交叉污染的---措施。
分设洁净车间空调净化系统
洁净室的空调净化系统应根据不同的洁净度等级分设。对β-内---类、------、强毒微生物等的工作室，应设置空调净化系统，其排风口应安装过滤设备，以将这些药的污染降至低限度。对不同洁净度等级的洁净室，产生粉尘和有害气体的洁净车间，被排介质毒性大的、，应单独设局部排风系统。洁净车间的排风口应有防倒灌装置。送风、回风和排风的启闭应有连锁装置。
洁净室中的温湿度控制洁净空间的温湿度主要是根据工艺要求来确定，但在满足工艺要求的条件下，应考虑到人的舒适度感。随着空气洁净度要求的提高，出现了工艺对温湿度的要求也越来越严的趋势。具体工艺对温度的要求以后还要列举，但作为总的原则看，由于加工精度越来越精细，所以对温度波动范围的要求越来越小。例如在---集成电路生产的光刻---工艺中，作为掩膜板材料的玻璃与硅片的热膨胀系数的差要求越来越小。直径100 um的硅片，温度上升1度，就引起了0.24um线性膨胀，所以必须有±0.1度的恒温，同时要求湿度值一般较低，因为人出汗以后，对产品将有污染，---是怕钠的半导体车间，---洁净厂房，这种车间温度不宜超过25度，湿度过高产生的问题更多。相对湿度超过55%时，厂房洁净房装修，冷却水管壁上会结露，洁净厂房标准，如果发生在精密装置或电路中，就会引起各种事故。相对湿度在50%时易生锈。此外，湿度太高时将通过空气中的水分子把硅片表面粘着的灰尘化学吸附在表面难以清除。相对湿度越高，威海洁净厂房，粘附的越难去掉，但当相对湿度低于30%时，又由于静电力的作用使粒子也容易吸附于表面，同时大量半导体器件容易发生击穿。对于硅片生产合适湿度范围为35—45%。
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